Insitec干法在線粒度儀概述

Insitec干法在線粒度儀提供全自動化實時或手動近線粒度測量，不管是連續或批量生產，氣載或重力輸送的管道。 可監控的工藝范圍包括：研磨粉到食品、精細的化學品以及衛生標準嚴格且遵守苛刻規章制度的制藥業。 為了保證代表性取樣，無論是中試規模還是商業規模，定制的工藝界面可滿足客戶的需求。 每款Insitec干法系統均具有以下特點：

• 模型硬件依據GAMP5標準及CIP/SIP要求制造，符合特定的制造規程。
• 簡單易用的軟件及全自動化運行，最大限度地降低培訓要求同時解放人力。
• 與現有控制平臺整合，簡化自動化控制協議的開發。
• 可靠性高達95%以上，幾乎無停機，最小化維護需求的同時最大化投資回報率。

Insitec干法在線粒度儀工作原理

概述
所有 Insitec 的安裝均依照*的應用要求量身定制。 該系統包含從簡單的近線手動操作系統到全自動運行系統，可為連續監測及多元控制提供可靠的在線解決方案。 馬爾文公司與客戶通力合作，無論何時何地，均可為客戶提供專業知識、硬件及軟件服務。 在成功完成項目的同時，確保了成本效益與良好的投資回報。

成功因數
工藝分析的成功取決于三個關鍵部分的仔細考量：

• 工藝界面。
• 樣品測量。
• 數據顯示與使用。

工藝界面
Insitec 系統是工藝設備系統，在工廠環境中運行。 正確選擇儀器與工廠之間的界面是確保長期*運行的基礎。

Malvern Panalytical 擁有在多種干式應用中經過驗證的技術。 從用于每小時100噸及以上流量的兩級式螺旋取樣系統，到靜態采樣器、簡便的分散器以及采樣管用于較低流量，一應俱全。 成熟的技術確保代表性樣品以適當的分散狀態及分析濃度被自動*地傳遞至測量區域。

Insitec在線系統與工藝流程共同運行并具有手動界面。 對于自動化連續運行，Insitec安裝于工藝管道內或相關的采樣支路上。

在適合的分散狀態下進行測量，確保獲取相關的數據，無論是想要了解的狀態是團聚顆粒還是單獨粒度。

每個測量點都可能需要一款的Insitec，或使用單個粒度儀監測多條線路或多項工藝步驟。 這取決于需要的測量頻率。

設計優良的在線工藝界面：

• 傳遞濃度合適的代表性樣品。
• 可靠運行、降低維護頻率、不干擾工藝流程。
• 循環分析材料，盡量減少廢料。

樣品測量
Insitec 系統采用激光衍射技術快速測量顆粒粒度。 應用于干法系統時，可在一秒鐘內對完整的顆粒粒度分布進行測量，從而提供瞬時監測。 即使是具有快速動態的工藝，也可進行有效追蹤。

Insitec系統可直接測量工藝流。 一些工藝中，顆粒負載率或濃度可能在例行操作過程中發生變化。 這對許多顆粒測量系統而言是一項挑戰，同時會對測量的顆粒粒度產生不利影響。 然而，所有Insitec系統安裝的多重散射校正專li可確保測量的粒度變化始終真實可靠。 此類計算程序在檢測前對與幾個顆粒相互作用的光源濃度影響進行算術糾正。 因此，所有測量與樣品濃度無關。

Insitec可為所有粒度分布提供可靠、及時、完整的數據。 無論是人工控制還是自動控制，這些數據均為更好的工藝控制奠定了穩固的基礎。

數據顯示和使用
Insitec 系統與現有的控制系統整合。 典型情況下，該系統由中央控制室操作，并依據測量的結果制定例行決策。 強大的軟件包使整合與數據分析更為簡單明了。

Malvern Link II軟件具有將Insitec與現有控制系統以及與自動化工藝控制進行整合的功能。 允許分析員從電腦或現有的控制模擬系統進行操作。 重要的是，Malvern Link II并非僅限于Insitec整合。 該軟件還可輕松地進行其它儀器類型的整合，簡化多元控制。

RTSizer軟件采用清楚易懂的方式顯示測量數據。 結果報告可按照工業及客戶標準定制，從而改善信息流。 Insitec數據用于：

• 改善工藝認知度。
• 提供即時擾動檢測。
• 支持整體工藝優化。
• 自動化工藝控制。

由于報告了完整的粒度分布，因此監測與控制可以以任何粒級為基礎，例如：3至30微米粒級的細粉末，超過200微米的材料等。 Insitec數據可優化人工控制策略并使工藝控制實現*自動化，從而提供豐厚的經濟效益。